本实用新型主要涉及大尺寸激光直写运动平台领域，尤其涉及一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台。背景技术：现用于光栅尺刻写的运动平台受限于其尺寸和性能，使得其刻写出来的光栅尺的性能和长度已经渐渐落后于时代，所以，生产一种大尺寸、高精度的运动平台来满足精度不断升级的光栅尺刻写需求已显得尤为必要。其关键技术特征为测量信号的高速同步采集以及干涉测长电信号与刻线电信号的关联处理，以消除测量速度对于测量结果的影响。

技术实现要素：本实用新型提供一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台，包括：激光刻写仪器900，用于在待刻写玻璃刻写光栅尺；x轴粗动直线轴100，用于光栅尺刻写时，使玻璃在x轴方向上做扫描运动；rz微动旋转轴200，安装于x轴粗动直线轴100上，用于对x轴粗动直线轴100运动产生的误差进行补偿，使玻璃始终相对于x轴是平行水平运动的。y轴粗动轴300，用于光栅尺刻写时，带动激光刻写仪器900进行运动；rxyz微动轴400，安装在y轴粗动轴300的正中央，且激光刻写仪器900安装在rxyz微动轴400的正中央，用于对x轴粗动直线轴y轴粗动轴300运动产生的误差进行补偿，带动激光刻写仪900进行对焦。

优选的，还包括多个气囊减震器700，大理石基座500放置于气囊减震器700上方。本实用新型的有益效果：使用了光栅尺与激光干涉仪相结合的反馈方式，使得平台自身的精度大大提高了；与现有的刻写平台相比，增加了xy方向上的行程，使得生产的光栅尺长度增加了；与现有的刻写平台相比，x轴，rz轴，y轴，还有自由度微动台的结合，可以消除平台自身的误差，使得生产的光栅尺的精度等级提高了。附图说明图1为本实用新型的总结构示意图；图2为本实用新型的局部结构示意图，进一步的说是关于x轴与rz轴的结构示意图；

该粉末供给系统采用高度兼容化设计，使得一套供粉系统可服务于一台或多台同型号或不同型号的BLT金属增材设备。沉淀多年生产经验，智能软件为零件质量保驾护航出光扫描前，BLT-MCS根据工作平台光栅尺反馈的实际位置计算得到零件打印的实际高度，并与剖分文件理论高度比较，如果误差超过质量要求，则需要软件自动补偿或者停机检查。

步骤：x轴粗动轴100开始工作，在x轴方向上做扫描运动，在激光干涉仪定位系统800与平面反射镜203的配合下，检测出x轴粗动轴100在x轴方向运动的pitch值与yaw值误差，并且同时把pitch值误差反馈给rxyz微动轴400，把yaw值误差反馈给rz微动旋转轴200，rxyz微动轴400进行ry方向的微运动，以消除x轴粗动轴100在x轴方向上的pitch值误差，rz微动旋转轴200在rz方向进行微转动，以消除x轴粗动轴100在x轴方向上的yaw值误差，使得吸附在真空吸附板204上的玻璃始终相对于x轴是平行水平运动的；步骤：完成步骤之后，便完成了光栅尺一条刻度的刻写工作，接着y轴粗动轴运动到下一工作点，重复步骤，步骤，直至y轴粗动轴跑完整个行程，完成一条光栅尺的刻写工作。